微机电系统（MEMS，即MicroElectro-MechanicalSystems）工艺，是一种面向纳米至微米尺度的

微结构制造技术。它源于半导体与微电子工艺体系，融合了光刻、外延、薄膜淀积、氧化、扩散、离子

注入、溅射、蒸镀、刻蚀、划片及封装等多种现代加工手段，核心是通过微加工方式制造复杂三维形体，

本质上实现了电学与机械系统的微型化集成。这一工艺不仅广泛支撑着各类微器件的研发制造，更推动

了技术领域向微型化、集成化与智能化方向突破，为多个行业带来了变革性影响。

　　技术优势

　　作为这一工艺的代表性应用成果，微机电系统微镜（即MEMS微镜）在多个高科技领域展现出突出的

技术优势：

　　1.高精度与高速响应的光线控制

　　高精度扫描：依托精密的机械结构设计与电子控制系统配合，微镜可实现对光线的高精度扫描，扫描

定位误差控制在微小范围，满足精密光学调控需求。

　　快速动态响应：微镜的机械响应速度极快，能在毫秒甚至微秒级内调整光线的传播方向与角度，完全

适配高速扫描、动态测量等对响应时效要求严苛的场景。

　　MEMS微镜介绍-功能集成涂层-生物相容性涂层-金属电极涂层

　　2.小型化轻量化与低功耗特性

　　体积紧凑：采用微加工工艺的高集成特性，微镜整体结构高度紧凑，占用空间远小于传统光学调节部件。

　　重量轻盈：因体积精简，其重量大幅降低，不仅减轻了对设备支撑结构的负荷，还进一步提升了整个

系统的运行稳定性与长期可靠性。

　　低功耗运行：工作过程中能耗较低，可有效延长设备续航时长，同时降低长期使用中的能源成本。

　　3.多元应用场景覆盖

　　MEMS微镜的应用范围广泛，可作为核心部件适配多领域需求：

　　在激光雷达领域，是自动驾驶、无人机导航、机器人环境感知等场景的关键组件，负责光线的发射与

接收调控；

　　在光学成像领域，广泛应用于3D摄像头、AR/VR头戴设备、微型投影仪及医疗成像设备中，通过精准

调整微镜角度与位置，实现光线的精细控制，提升成像清晰度与稳定性；

　　在通信与显示领域，可用于空间激光通信、光纤通讯中的精跟踪快反镜、光开关，以及高清显示设备、

车载抬头显示（HUD）等产品，发挥光学信号调节作用。

　　4.易集成与规模化生产能力

　　高兼容性集成：能够与微电路单元共同集成在单一芯片上，构建完整的微型功能系统。这种高度集成的

特性不仅简化了设备整体的设计与制造流程，还减少了部件间的连接损耗，从而提升系统的综合性能与运行可靠性。

　　规模化批量生产：借助标准化微加工工艺，可在单张晶圆上同步制造数百甚至数千个结构一致的微镜器件，

实现高效批量生产。这种生产模式既能快速满足市场规模化需求，又能通过量产效应降低单位产品成本，提升性价比。

　　综上所述，MEMS微镜凭借高精度扫描、快速响应、微型化设计、低功耗运行，以及广泛的应用适配性、

易集成和可批量生产等多重优势，在现代科技领域的作用日益凸显，成为推动光学技术、智能设备等领域创

新发展的重要支撑。

　　中型超声波喷涂机

　　为满足MEMS晶圆及不同形貌基板的光刻胶涂覆需求，超声波喷涂技术凭借独特优势成为关键工艺。其

通过超声波振动将光刻胶雾化成微米级均匀雾滴，结合精密运动控制系统实现精准涂覆。

　　针对MEMS晶圆的微纳结构（如高深宽比沟槽、凸起阵列），该技术可通过调节超声频率（通常20-180kHz）

和雾化气压，使雾滴穿透微结构间隙，形成无气泡、厚度均匀（±5%以内）的涂层，解决传统喷涂的阴影效应

问题。对于异形基板（如曲面、台阶式基板），其非接触式喷涂方式能适应复杂形貌，通过动态调整喷头距离与

移动路径，确保不同区域涂覆一致性，满足光刻工艺对胶层平整度的严格要求。

　　此外，该技术材料利用率达80%以上，远超传统空气喷涂（30%-50%），且雾滴粒径可控（1-50μm），

为MEMS器件及多形貌基板的高精度制造提供可靠支撑。